Structure and optical properties of multi-phase structured amorphous silicon carbon nitride thin films deposited by plasma enhanced chemical vapour deposition /
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Mohd Azam Abdul Rahman (مؤلف) |
---|---|
التنسيق: | أطروحة كتاب |
اللغة: | English |
منشور في: |
2018.
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://studentsrepo.um.edu.my/8640/ |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
The structure and optical characteristics of plasma enhanced chemical vapour deposited silicon oxide thin films /
بواسطة: Tan, Kim Hee
منشور في: (1997) -
Preparation and characterisation of hydrogenated R.F. sputtered amorphous silicon carbide films /
بواسطة: Loo, Fook Leong
منشور في: (1996) -
Hot-wire chemical vapour deposition of silicon carbide thin films from pure silane and methane gases /
بواسطة: Tehrani, Fatemeh Shariatmadar
منشور في: (2013) -
Trap-assisted tunneling mechanism of Zirconium Oxynitride (ZrON) thin film on Silicon Carbide /
بواسطة: Nicklaane Krishnamoorthy
منشور في: (2020) -
Layer-by-layer plasma enhanced chemical vapour deposition of nanocrystalline silicon thin films /
بواسطة: Goh, Boon Tong
منشور في: (2012)