Ultra-thin tantalum oxide for 256 Mb Drams /
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Chandima, Perera Merinnage Tamara |
---|---|
التنسيق: | أطروحة كتاب |
اللغة: | English |
منشور في: |
1998.
|
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
A correlation of oxide trap density and TDDB characteristics of very thin SiO2 films /
بواسطة: Perera, Merinnage Tamara Chandima
منشور في: (1995) -
Ono characterization for dram application /
بواسطة: Lim, Ker Soon
منشور في: (1999) -
Automatic dram cell positioning system /
بواسطة: Zhu, Yong
منشور في: (1998) -
New investigation in ultra-thin gate oxide degradation phenomena /
بواسطة: Guan, Hao
منشور في: (2001) -
A study of the quasi-breakdown mechanism in ultra-thin gate oxide /
بواسطة: Xu, Zhen
منشور في: (2000)