Optical and oxidation studies of plasma enhanced chemical vapour deposited amorphous silicon carbide films /
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Shibu Gangadharan |
---|---|
التنسيق: | أطروحة كتاب |
اللغة: | English |
منشور في: |
2000.
|
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Hydrogenated amorphous silicon by pulsed plasma enhanced chemical vapour deposition technique /
بواسطة: Goh, Boon Tong
منشور في: (2005) -
The structure and optical characteristics of plasma enhanced chemical vapour deposited silicon oxide thin films /
بواسطة: Tan, Kim Hee
منشور في: (1997) -
Structure and optical properties of multi-phase structured amorphous silicon carbon nitride thin films deposited by plasma enhanced chemical vapour deposition /
بواسطة: Mohd Azam Abdul Rahman
منشور في: (2018) -
Hot-wire plasma enhanced chemical vapour deposition system for preparation of silicon carbide thin films /
بواسطة: Aniszawati Azis
منشور في: (2012) -
Oxidation studies of hydrogenated amorphous silicon carbide films /
بواسطة: Lee, Liang Pao
منشور في: (2001)