Plasma enhanced physical vapor deposition of titanium nitride thin film /
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Chew, Sweet Perng |
---|---|
التنسيق: | أطروحة كتاب |
اللغة: | English |
منشور في: |
2002.
|
الموضوعات: | |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Plasma enhanced chemical vapour deposition of carbon nitride films from ethane and nitrogen gas mixtures /
بواسطة: Maisara Othman
منشور في: (2012) -
Fabrication and characterization of polymeric and nanostructured carbon nitride thin films : a simple difference in electrode distance /
بواسطة: Richard Ritikos
منشور في: (2011) -
Hot-wire plasma enhanced chemical vapour deposition system for preparation of silicon carbide thin films /
بواسطة: Aniszawati Azis
منشور في: (2012) -
Layer-by-layer plasma enhanced chemical vapour deposition of nanocrystalline silicon thin films /
بواسطة: Goh, Boon Tong
منشور في: (2012) -
Hybrid Plasma Enhanced Chemical Vapour Deposition/sputtering system for preparation of luminescent silicon carbon films /
بواسطة: Nur Maisarah Abdul Rashid
منشور في: (2013)