Adhesion measurement of various films on the porous low dielectric the porous low dielectric constant film /
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Goh, Luona Loh Nah |
---|---|
التنسيق: | أطروحة كتاب |
اللغة: | English |
منشور في: |
2001.
|
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Characterization of a low dielectric constant material for multilevel interconnects /
بواسطة: Wang, Cuiyang
منشور في: (1999) -
Development of low cost, lossy and low dielectric constant OPEFB-HDPE composite material for microwave application
بواسطة: Balami, Sunday Dauda
منشور في: (2017) -
Infrared Dielectric Characteristics Of Porous Binary And Ternary Iii-Nitrides Heterostructures
بواسطة: Yew, Pauline
منشور في: (2018) -
Evaluation of selected timber properties using dielectric constant by low frequency techniques / Rohana Hassan
بواسطة: Hassan, Rohana
منشور في: (2006) -
Development of holmium oxide thin film as high-k gate dielectric based on silicon carbide substrate /
بواسطة: Olabisi, Odesanya Kazeem
منشور في: (2022)