Nitriding of titanium by inductively coupled plasma /
محفوظ في:
المؤلف الرئيسي: | Abdul Hakim Hashim |
---|---|
التنسيق: | أطروحة كتاب |
اللغة: | English |
منشور في: |
2002.
|
الموضوعات: | |
الوصول للمادة أونلاين: | http://studentsrepo.um.edu.my/id/eprint/1384 |
الوسوم: |
إضافة وسم
لا توجد وسوم, كن أول من يضع وسما على هذه التسجيلة!
|
مواد مشابهة
-
Pulsed laser deposition of titanium nitride thin film /
بواسطة: Wang, Haidan
منشور في: (2000) -
Plasma-induced damage to gallium nitride /
بواسطة: Choi, Hoi Wai
منشور في: (2002) -
Studies on clean and nitrided GaAs(001) and synthesis of carbon nitride films /
بواسطة: Li, Yungui
منشور في: (2001) -
Effect of DC magnetron sputtering on aluminium nitride (AIN) thin films /
بواسطة: Mohd Adreen Shah Azman Shah
منشور في: (2014) -
Plasma enhanced chemical vapour deposition of carbon nitride films from ethane and nitrogen gas mixtures /
بواسطة: Maisara Othman
منشور في: (2012)