Study on alignment capability and overlay performance in back-end of line lithography process for 130nm technology /
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| 主要作者: | |
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| 格式: | Thesis 圖書 |
| 語言: | English |
| 主題: | |
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| 實物描述: | xx, 127 leaves : ill. (some col.) ; 30 cm. |
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| 參考書目: | Bibliography: leaves 108-112. |